第80章 数据风云(2 / 2)

他知道,总有人会因为嫉妒、利益或者别的什么原因跳出来阻挠。

但这正好,可以借此机会,将内部的不稳定因素彻底清除。

时间过得很快,距离三天之约越来越近。

研发中心内部的议论声更大了,甚至有消息泄露到了外界。

一些科技媒体开始捕风捉影地报道“华信新任cto夸下海口,三天攻克7纳米技术难关”,引发了业界的广泛关注和讨论。

竞争对手幸灾乐祸,等着看华信和周离的笑话。

李泽坤也打来电话,语气中带着一丝担忧:

“周老弟,这步子是不是迈得太大了?

7纳米非同小可,不必急于一时。”

“李董放心,我自有分寸。”

周离的语气平静而自信,反而安抚了李泽坤。

第三天上午,约定的时间即将到来。

研发中心最大的会议室再次座无虚席。

不仅专家委员会成员全部到场,许多得到消息的资深工程师和研究员也挤满了后排。

所有人的目光都聚焦在主席台上那个即将揭晓谜底的年轻人身上。

钱正明坐在第一排,面色凝重。

刘铭则嘴角带着一丝不易察觉的冷笑,他已经做好了准备。

一旦周离拿不出东西或者拿出的是伪造数据,他就会立刻发难,彻底将这个空降的“骗子”钉在耻辱柱上。

实验室的大门被推开。

周离走了出来,手里拿着一个银色的、带有特殊加密接口的固态硬盘。

他步伐稳健,眼神平静,仿佛只是要进行一次普通的技术汇报。

他无视了那些复杂的目光,径直走到会议室的主讲台,将固态硬盘接入了投影系统。

空气仿佛凝固了,所有人都屏住了呼吸。

周离的目光扫过全场,最终落在钱正明和刘铭身上,淡淡开口:

“时间到,各位,请看。”

随着周离的操作,巨大的投影屏幕瞬间亮起。

没有华丽的开场动画,没有冗余的客套话,映入眼帘的,是密密麻麻、却又条理清晰的工艺流程图、原子结构模型、关键参数列表以及复杂的物理化学公式。

屏幕的标题赫然写着——

“7nm FinFEt工艺核心数据 V1.0”。

嗡!会议室里响起一片倒吸凉气的声音。

仅仅是这个标题和初步展示的框架结构,就足以让在场的内行们心头巨震。

这绝非随意拼凑的臆想,其专业性和严谨性,远超他们之前的任何预研方案。

“这……这是鳍式场效应晶体管的全新结构?”

钱正明猛地站起身,快步走到屏幕前,几乎将脸贴了上去,浑浊的老眼中爆发出难以置信的光芒。

“这个栅极设计……太巧妙了!

它解决了漏电问题!”

“还有这个材料配比……是硅锗?

但比例和掺杂方式完全不同!

这能大幅提升载流子迁移率!”

“快看这个多重曝光方案!

竟然能绕开EUV光刻机的限制?

我的天……”

一位负责光刻工艺的专家语无伦次地惊呼起来,双手都在颤抖。

越来越多的专家围拢到屏幕前,他们忘记了之前的质疑和赌约,完全沉浸在了眼前这片崭新的技术天地之中。